一、光刻机价值量极高，是半导体设备中市场占比最大的品类。

光刻环节位于晶圆制造流程的核心位置，是实现电路图案转移的起点环节。在前段工艺中，晶圆需经过反复的沉积、光刻、刻蚀与离子注入等步骤，光刻负责将电路设计图案精确投射到硅片表面，并通过后续刻蚀形成纳米级器件结构。作为贯穿各制程的关键工序，光刻需多次重复，直接决定了器件尺寸、线宽与集成度。

按操作简便性程度，光刻机可分为手动光刻机、半自动光刻机和全自动光刻机；按曝光方式的不同，可分为接近接触式光刻机、直写光刻机和光学投影式光刻机；按光源类型的不同，可分为紫外（UV）光刻机、深紫外（DUV）光刻机和极紫外（EUV）光刻机。

图表1：光刻机的分类（按操作简便性程度划分）

光刻机价值量极高，是半导体设备中市场占比最大的品类。2024年，全球半导体设备销售额约1090亿美元，其中光刻、刻蚀与薄膜沉积为最核心的三类设备，光刻机以约24%的份额居首。

受技术复杂性与交付难度驱动，光刻机单机价格远超其他设备：DUV机型售价在2000万–5000万美元区间，ASMLEUV机型单台可达1.5亿–2亿美元，而最新High-NAEUV设备价格或高达3.5亿–4.1亿美元。光刻设备因此成为晶圆厂资本开支中最重要的投资方向，且随着先进制程演进，对高分辨率与高精度光刻机的需求有望持续抬升整体占比。

图表2：2024年全球半导体设备价值量占比（%）

二、新需求助推全球光刻机市场规模快速增长，EUV成为全球光刻机重要发展方向

近年来，消费电子领域的需求呈现出相对低迷的态势，然而，在这样的大环境下，电动汽车、风光储以及人工智能等崭新的需求领域却异军突起，成为了半导体产业持续成长的强劲新动能。

在这些新兴需求的有力推动下，全球光刻机应用需求不断增加，市场规模实现了平稳增长。数据显示，2023年，全球光刻机市场规模已增长至271.3亿美元，2024年进一步增至315亿美元。

图表3：2020-2024年全球光刻机市场规模及增长趋势（亿美元，%）

从全球光刻机产品销量结构占比情况来看，目前全球光刻机行业销售仍以中低端产品（KrF、i-Line）为主，占比分别为37.9%和33.6%；其次分别为ArFi、ArF dry、EUV，占比分别为15.4%、5.8%及7.3%。

这表明不同类型光刻机在市场中的需求存在差异。值得注意的是，近年来，随着半导体产业发展，EUV已逐渐成为全球光刻机的重要发展方向之一，将成为未来全球光刻机行业发展的主要推力。

图表4：全球光刻机行业细分产品销量占比（%）

全球光刻机市场格局稳定，三巨头长期寡头主导。ASML、Canon与Nikon长期分列全球市场份额1至3名，三家企业对应市场份额约61%、34%、5%。

图表5：2024 年全球光刻机龙头企业及市场份额（出货量口径，%）

高端EUV机型由ASML垄断，Nikon与Canon主要布局成熟DUV。分机型看，ASML在高端领域具备绝对垄断地位。

三、中国光刻机应用需求激增，上海微电子是唯一光刻机龙头

光刻机是芯片制造的关键设备之一。近几年来，随着半导体产业的加速崛起，我国光刻机应用需求迅速激增。

同时，我国政府正在加快努力推动半导体产业发展，光刻机是中央政策指明要重点突破发展卡脖子技术及装备。

因此，国内光刻机行业得到了资金支持、税收优惠等一系列国家政策倾斜，持续助力了国产光刻机生产能力提升，推动了国内光刻机市场规模上涨。

图表6：2014-2023年国内光刻机产量及同比增长情况（台，%）

据统计，2023年，我国光刻机产量达124台，全国光刻机市场规模已突破至160.87亿元。

图表7：2014-2023年国内光刻机市场规模及同比（亿元，%）

国内市场看中，上海微电子是目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，具备90nm及以下的芯片制造能力。根据公开数据，上海微电子光刻机出货量占国内市场份额的比例已超过80%。

此外，北京华卓精科、北京科益虹源等国内企业也在积极研发和生产光刻机设备，共同推动国内光刻机行业的发展。目前，我国14nm光刻机已经进入量产阶段，而7nm的研发也在紧锣密鼓地进行。

图表8：中国光刻机行业重点企业情况

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